一般而言,产品精磨后,产品的光泽度在40~50左右,而有些石材精磨后达不到上面的光泽度,如山西黑、黑金砂、集宁黑等,此类产品精磨后的光泽度只有20~30度之间,用前面的微粒研磨原理解释不够一面,这种产品在抛光“干与湿”,温度的升高,降温中,强化抛光过程,发生物理化学反应,产品在经过“干抛光、湿抛光”中,光泽度逐步提高,光泽度达95度以上
抛光盘(具、磨块)
规格平整的石材光面板,是石材平面磨削的一种表达加工的表现形式,多采用含有金属材料制成的硬盘作抛光盘。软盘抛光的抛光面,在石材受压时易屈服成一凹面,适用于弧面型抛光。中硬盘的耐磨性,吸附性较好,并具有一定的弹性,对平面型石材抛光的效果也比较好。
抛光工艺参数
工艺参数有抛光剂的浓度和供给量,抛光时的压力和线速度等。在小于某一浓度值之前,抛光速度随抛光剂浓度的增加而增加,浓度值达之后,若再增加浓度,抛光速度反而降低。同样,抛光剂的供给量在一定值时,抛光速度,之后若继续增加供给量,抛光速度反而降低。适当增加抛光时的压力,可以增加抛光速度,但压力过大,磨削作用加强,不利于光泽面的形成。抛光速度取决于抛光盘(具)的转速,但线速度过大,抛光剂将会被甩出,造成浪费。
大理石抛光粉使用步骤:
1、大理石抛光粉佳使用效果的要求:地面平整,翻新完成后使用或晶面日常保养。
2、取本大理石抛光粉湿磨工艺:加水调成浆状(比例为1:6)。用石材晶面机合百洁垫(红垫、白垫、纳米垫、兽毛垫都可以,根据石材材质和经济性决定)研磨3-5钟后,保持地面湿润,用清水轻抛洗净吸水机吸干。后再用干净纤维垫轻抛2-3分效果更佳!3、取本大理石抛光粉干磨工艺:加水调成浆状(比例为1:1)。用石材晶面机合纤维垫研磨,磨干地面。(晶面机阻力增大时即晶面浆结晶层形成时可在地面洒几滴水至磨干)
4、观察地面结晶层亮度、油润度,可按上述方法施工二遍,可达到满意结晶面,做翻新工程时可以直接交工。
5、地面干燥后,可用干净尘推推尘。
大理石抛光粉的操作非常简单,按标准规范化操作,晶面机来回运行六遍,好比洗地一样简单。其用料晶面粉与水比例是1:6,湿磨过程中保持地面湿润,磨过的晶面浆可刮入下一排工作面。经石材护理公司工程部多年使用,的使用量约为120平方/公斤。