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pvd真空镀膜的特点及优势

2019-07-05 03:48:15  3845 次浏览

采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

和真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比较,PVD离子镀膜具有如下优点:

1 .膜层与工件表面的结合力强,更加持久和耐磨

2 .离子的绕射性能好,能够镀形状复杂的工件

3 .膜层沉积速率快,生产效率高

4 .可镀膜层种类广泛

5 .膜层性能稳定、性高(获得FDA认证,可植入人体)

由于PVD镀膜系统是一个较为复杂的、科技和技术含量很高的设备,其中包含了真空技术、等离子体技术、偏压电源技术、PLC控制技术等很多先进科技,因此中国大陆有能力制造PVD镀膜机的厂商很少;类似在设计制造PVD镀膜机的同时也从事PVD镀膜服务且具有多年积累下来的设计、制造、使用和维护PVD镀膜机的经验的厂家就更少了。

以上就是PVD镀膜(离子镀膜)技术的主要特点和优势相关介绍,作为电镀经营的企业,我们始终坚持诚信和让利于客户,坚持用自己的服务去打动客户,期待您在线留言或者来电咨询

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